合理添加阻垢剂的方法 – 福佑德水处理药剂

合理添加阻垢剂的方法

  使用阻垢剂可以提高出水量和水质,降低设备运行成本,但前提应该是合理选择和使用。如果选择了不正确的产品或者使用不当,效果也会受到影响。那么如何合理的添加阻垢剂呢?小编会在以下的文章中介绍给大家。
  、为了达到良好的效果,静态搅拌前应加入阻垢剂,加入前应校准加药计量泵的实际输出。加药时,注意连续加药并与进水流量成正比,以保持加药水平。
  、剂量:剂量是每单位体积进水所需的药物标准溶液的剂量,即标准溶液在进水中的剂量浓度。
  、药物制备说明:阻垢剂可直接加入或以任何比例稀释。药物标准溶液的稀释浓度不应低于%,稀释后的溶液应充分搅拌,确保混合均匀。应注意确定合理的用量,用量过高或不足都会造成膜污染。
  在实际使用中,由于厂家配方不同,产品的浓度可能会有所不同。所以建议具体用量按照说明书使用或者咨询厂家后使用。
  阻垢剂可与水中的钙和镁分离,形成稳定的可溶性螯合物,稳定水中更多的钙和镁离子,从而增加钙和镁盐的溶解度,压制水垢的沉积。富集在生长核附近的扩散边界层,形成双电层,阻止垢离子或分子团凝聚在金属表面。
  加入阻垢剂后,试剂吸附在晶体上并掺杂在晶格中,干扰无机垢的结晶,使晶体变形,或增加大晶体的内应力,使晶体容易开裂,阻碍垢的生长。
  试剂可以在金属传热表面上形成与无机晶体颗粒一起沉淀的膜。当膜增加到一定厚度时,在传热面上破裂,留下带有一定垢层的传热面。由于该膜的连续形成和破裂,水垢层的生长受到压制。

  水中离解产生的阴离子与碳酸钙微晶碰撞时,会发生物理化学吸附,使微晶表面形成双电层,带负电。由于阻垢剂微晶的链状结构,可以吸附相同电荷,静电排斥可以防止微晶相互碰撞,从而避免大晶体的形成。当被吸附的产物遇到其他分子时,被吸附的晶体将被转移,晶粒将被均匀分散,从而阻碍晶粒之间以及晶粒与金属表面之间的碰撞,减少溶液中的晶核数量。

  以上是添加阻垢剂的合理方法,希望对大家有所帮助。该产品能除去垢和阻止水垢的形成,提高热交换效率,减少电能或减少燃料的消耗;水处理还可减少排污,提高水的利用率,一般可节约%以上,符合我国节能减排的新政策。
小编:Lynn

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